IC前道扫描投影光刻机展品（6.2H-中心展区）
高分辨率6代小Mask投影光刻机展品（5.2H-E100）
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SMEE亮相第21届工博会
发布时间：2020-03-26 浏览次数：34 返回列表
2019年9月17日，第21届中国国际工业博览会在国家会展中心（上海）隆重开幕，众多行业知名企业竞相展示了尖端技术和先进产品。在科技创新展区（6.2H-中心展区）及新一代信息技术与应用展区（5.2H-E100），SMEE分别展出了应用于IC前道制造的高端扫描投影光刻机及应用于平板显示TFT电路制造的高分辨率6代小Mask投影光刻机。诚邀您亲临现场，与我们共享这场工业领域的科技盛宴！
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